可提供193,248nm曝光波长；测定光刻胶灵敏度以及Dill ABC参数

  核算剖析光刻胶的各项参数，例如：膜厚改变曲线，显影速率，对比度曲线，PEB分散长度等

  LAB光刻模仿仿线D成形；有多种曝光模组：Proximity/Projection/E-Beam/Laser；强壮的工艺剖析以及OPC功用：工艺窗口，膜厚优化，FEM，BARC优化等

  秉承香港利满洋行30多年来以服务为主题的路向，继深圳利满实业有限公司，在国内另一重要驻点

  半导体、微纳加工、光通讯等先进领域中作出重要贡献。使用海外先进的技能、设备、工艺，提高国内开展的质量与速度。

  炎炎盛暑难挡参展热心，金秋时节收成累累硕果——利满科技第三季度参展回忆

  自6月起，利满科技各位职工都为接二连三的展会敞开了精密的筹备工作：从6月底7月初的SEMICON，到8月中旬的势银光刻胶工业大会...

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